高壓吸附分析儀

HPVA II

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產品特點

· 壓力範圍從高真空至 100 bar（200 bar 選配）。

· 利用穩定的恆溫槽實現對樣品溫度的準確控制分析溫度，從低溫77K至500℃。

· 雙自由空間測量可獲得準確的等溫數據。

· 可以測量或輸入自由空間。

· 從多個狀態方程使用NIST REFPROP壓縮因子計算來修正真實氣體。

· 報告以交互式電子表格形式提供。

· 自動建立等溫線和重量百分比圖。

· 壓力與時間，溫度與時間的即時圖表。

· 可以使用具有多達三種組分的氣體混合物。

· 動態數據提供了吸附速率的計算。

· 高精度，固態設計的高壓傳感器，讀數精度為±0.04％(FS)，穩定性為±0.1％。

· 系統可以達到200bar的最大壓力。

· 如果發生氫氣洩漏，氫氣感應器會自動關閉系統

· 包括BET表面積，Langmuir表面積和總孔體積計算

· 樣品分析和真空處理過程完全自動化。

· 內置真空樣品製備系統。

· 可使用多種吸附氣體：氮氣、氫氣、甲烷、氬氣、氧氣、一氧化碳和二氧化碳等。

· 套裝軟體含 NIST RefProp Database 23。

儀器的典型應用包括各種觸媒、分子篩、活性碳、奈米碳管等各種儲氫材料及二氧化碳捕獲（CCS）、儲氫、煤層甲烷氣、頁岩氣等領域。

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